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Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
Modello: Nitrogen Trifluoride CAS: 7783-54-2
Tipo di pagamento: L/C,T/T,Paypal
NF3 CAS trifluoruro di azoto: 7783-54-2 99,5%
Elevata purezza per elettronica
Incisione di gas speciale
Utilizzo del prodotto
Il trifluoruro di azoto (NF3) è una sorta di gas stabile incolore, inodore e di carattere, è anche una specie di ossidante forte. Il suo punto di fusione è 206,8 ℃, il punto di ebollizione è 129,0 ℃, insolubile in acqua. Il trifluoruro di azoto nell'industria della microelettronica è una sorta di eccellente gas di attacco al plasma, che è rotto in ioni attivo di fluoro durante il processo di attacco al plasma. Per l'incisione plasmatica di silicio e nitruro di silicio, l'uso di trifluoruro di azoto ha una velocità di attacco e una selettività più elevata rispetto all'uso di teltrafluoruro di carbonio o tetrafruolo di carbonio e gas misto di ossigeno, specialmente nel processo di materiale del circuito integrato di incisione con lo spessore di meno di 1,5 μm, Il trifluoruro di azoto ha un'eccellente velocità di attacco e selettività, per di più, non vi è alcun inquinamento sulla superficie del materiale inciso, è anche un buon agente di pulizia.
Parametro del prodotto
| Items | Unit | Indexs | ||||
| （NF3）≥ | Vol.% | 99.5 | 99.9 | 99.98 | 99.99 | 99.996 |
| （CF4）≤ | Vol.ppm | 1500 | 500 | 100 | 50 | 20 |
| （N2）≤ | Vol.ppm | 700 | 50 | 10 | 10 | 5 |
| （O2+Ar））≤ | Vol.ppm | 700 | 50 | 10 | 5 | 3 |
| （CO）≤ | Vol.ppm | 50 | 10 | 10 | 5 | 1 |
| （CO2）≤ | Vol.ppm | 25 | 10 | 10 | 5 | 0.5 |
| （N2O）≤ | Vol.ppm | 50 | 10 | 10 | 5 | 1 |
| （SF6）≤ | Vol.ppm | 50 | 50 | 10 | 5 | 2 |
|
Hydrolyzable fluoride
（Measured by HF）≤
|
Vol.ppm | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 |
| （H2O）≤ | Vol.ppm | 1 | 1 | 1 | 1 |
1 |
Elenco prodotti : Materiali chimici elettronici a semiconduttore > Materiali di incisione a semiconduttore/wafer
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